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2020年申請(qǐng)專利的十大誤區(qū)你入坑了嗎?

更新時(shí)間:2024-12-29 09:11:59     發(fā)布時(shí)間:2020-08-14 15:12:56     作者:財(cái)稅小編-王曉月



摘要:2020年申請(qǐng)專利的十大誤區(qū)你入坑了嗎?專利申請(qǐng)是技術(shù)成果保護(hù)的重要手段,也是獲得專利權(quán)的必然程序.不管是對(duì)專利本身還是對(duì)各項(xiàng)專利制度的理解均存在誤區(qū),因此想要提高專利授權(quán)率,這些誤區(qū)首先需要得到改進(jìn).

  【2020年申請(qǐng)專利的十大誤區(qū)你入坑了嗎】專利申請(qǐng)是技術(shù)成果保護(hù)的重要手段,也是獲得專利權(quán)的必然程序。隨著近幾年國(guó)家對(duì)知識(shí)產(chǎn)權(quán)的重視,不少企業(yè)對(duì)專利在提升核心競(jìng)爭(zhēng)力方面的作用有了進(jìn)一步的認(rèn)識(shí),于是紛紛加強(qiáng)了專利申請(qǐng)工作,我國(guó)的年度專利申請(qǐng)量也幅度增加。

  但是同時(shí)依然有許多問題發(fā)生,究其原因,往往還是因?yàn)閷@暾?qǐng)是一項(xiàng)高度專業(yè)又過程復(fù)雜的工作,而不少企業(yè)在專利申請(qǐng)過程中,不管是對(duì)專利本身還是對(duì)各項(xiàng)專利制度的理解均存在誤區(qū),因此想要提高專利授權(quán)率,這些誤區(qū)首先需要得到改進(jìn)。

申請(qǐng)專利的十大誤區(qū)

  本篇文章來給大家分析一下申請(qǐng)專利的十大誤區(qū)都有哪些

  誤區(qū)1:自主研發(fā)的成果不申請(qǐng)專利就有知識(shí)產(chǎn)權(quán)。

  一些技術(shù)人員認(rèn)為只要是自主創(chuàng)新,就有了自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)。其實(shí)不然,專利是一種壟斷權(quán),自主研發(fā)的技術(shù)成果如果不申請(qǐng)專利,就得不到法律確認(rèn)和保護(hù)。

  當(dāng)他人盜用其研究成果時(shí),因研發(fā)者對(duì)成果不具有專利權(quán),得不到法律保護(hù),就無法追究盜用者的法律責(zé)任。同時(shí),在我國(guó),專利申請(qǐng)采用的是先申請(qǐng)?jiān)瓌t,具有創(chuàng)造性、新穎性和實(shí)用性的發(fā)明創(chuàng)造誰先申請(qǐng)了,專利就授予誰。

  因此,研發(fā)者如不及時(shí)申請(qǐng),而被他人搶先申請(qǐng)并被授予專利權(quán),研發(fā)者就無法追究他人的法律責(zé)任。這樣的案例在中國(guó)可以說是數(shù)不勝數(shù)。

  誤區(qū)2:產(chǎn)品投入大規(guī)模生產(chǎn)后才申請(qǐng)專利。

  在與發(fā)明人就申請(qǐng)專利的技術(shù)內(nèi)容進(jìn)行交流時(shí),他們中有很多人都有這樣的想法:這一技術(shù)方案還未投入生產(chǎn),也沒有產(chǎn)品問世,此時(shí)申請(qǐng)專利是為時(shí)過早,等產(chǎn)品大規(guī)模投入生產(chǎn)后再申請(qǐng)專利更合適。

  殊不知,這時(shí)已經(jīng)晚了,即使你僥幸獲得授權(quán),專利也處在不穩(wěn)定狀態(tài)之中。此時(shí)如果你發(fā)現(xiàn)有人侵權(quán)并提起訴訟,侵權(quán)人則會(huì)以專利申請(qǐng)之日技術(shù)已經(jīng)被公開為由進(jìn)行抗辯。

  你不但打不嬴官司,而且以前為申請(qǐng)專利所花費(fèi)的精力、時(shí)間、金錢統(tǒng)統(tǒng)付之東流。專利申請(qǐng)的基礎(chǔ)不是已經(jīng)在市場(chǎng)上存在的產(chǎn)品,也不一定是已經(jīng)成型的產(chǎn)品。只要有了切實(shí)可行的想法,就可以著手申請(qǐng)文件的撰寫了。

  誤區(qū)3:專利產(chǎn)品的改進(jìn)不需再申請(qǐng)專利。

  有部分發(fā)明人認(rèn)為申請(qǐng)了一項(xiàng)專利后,就可“高枕無憂”,從而忽視了后期的繼續(xù)研發(fā)工作,即使開發(fā)出了新產(chǎn)品或有了新改進(jìn),也不再申請(qǐng)專利。這種錯(cuò)誤認(rèn)識(shí)的后果不異于未申請(qǐng)專利。

  因?yàn)楫?dāng)他人對(duì)該產(chǎn)品有了改進(jìn)并申請(qǐng)了專利,反過來就限制了原專利權(quán)人產(chǎn)品的更新?lián)Q代,這就會(huì)導(dǎo)致原專利權(quán)人不經(jīng)意間反而變成了侵權(quán)人。此時(shí),原專利權(quán)人就喪失了自己的知識(shí)產(chǎn)權(quán)。

  誤區(qū)4:一項(xiàng)技術(shù)成果只能申請(qǐng)一類專利。

  有部分發(fā)明人認(rèn)為一項(xiàng)技術(shù)成果一次只能申請(qǐng)一類專利,即只能申請(qǐng)發(fā)明專利或只能申請(qǐng)實(shí)用新型專利或者只能申請(qǐng)外觀設(shè)計(jì)專利。

  我國(guó)專利法規(guī)定的專利類型有三類:發(fā)明專利、實(shí)用新型專利及外觀設(shè)計(jì)專利,一項(xiàng)產(chǎn)品發(fā)明可同時(shí)申請(qǐng)多種專利,技術(shù)方案也可以同時(shí)申請(qǐng)實(shí)用新型和發(fā)明專利。

  從近兩年的審查情況看,實(shí)用新型專利通常4-7個(gè)月左右即可授權(quán);發(fā)明專利則需1年多。因此,對(duì)于一些重要的產(chǎn)品發(fā)明,若發(fā)明人只申請(qǐng)了發(fā)明專利,而此時(shí)他人“雙管齊下”,同時(shí)申請(qǐng)發(fā)明專利和實(shí)用新型專利,那么他將先獲得實(shí)用新型專利,擁有了產(chǎn)品的專利權(quán)。發(fā)明人若使用該產(chǎn)品,反而構(gòu)成了侵權(quán)。

  誤區(qū)5:得到了專利證書就獲得了有效的專利權(quán)。

  這是多數(shù)專利權(quán)人的普遍認(rèn)識(shí)誤區(qū)。在我國(guó),國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局對(duì)實(shí)用新型和外觀設(shè)計(jì)專利不進(jìn)行實(shí)質(zhì)審查,即使在你申請(qǐng)之前已經(jīng)有人就相同的技術(shù)方案申請(qǐng)過相同的專利,你的申請(qǐng)仍可能會(huì)被批準(zhǔn)。

  如果沒有人提出異議,你的專利權(quán)會(huì)維持下去。一旦有人對(duì)你的專利提出無效宣告,那么你的專利會(huì)百分之百地被無效掉,也就是說你并沒有取得有效的專利權(quán)。

  就發(fā)明專利而言,雖然國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局對(duì)它進(jìn)行過實(shí)質(zhì)審查,但誰也不能保證發(fā)明專利審查部門對(duì)世界范圍內(nèi)所有相關(guān)的文獻(xiàn)資料都檢索過。所以得到專利證書,并不代表你的專利是真正有效的專利,只是代表國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)行政機(jī)關(guān)對(duì)該專利申請(qǐng)的批準(zhǔn)。

  只有在你的專利有效期內(nèi)沒有人對(duì)你的專利提出無效宣告或者有人提出無效宣告但復(fù)審委員會(huì)經(jīng)過復(fù)審后維持了你的專利權(quán),此時(shí)你的專利才是真正有效的專利。

  誤區(qū)6:技術(shù)方案交待不清楚。

  很多單位的發(fā)明人提交的專利申請(qǐng)文件非常簡(jiǎn)單,有的甚至只有幾句話,技術(shù)方案完全沒有交待清楚,這給專利代理人制作正式專利申請(qǐng)文件帶來很大困難。

  要求發(fā)明人提供更多的技術(shù)方案時(shí),他們會(huì)以技術(shù)保密為由回避,表明這些發(fā)明人沒有把握好保密與公開的度。他們只是一味要求保密,害怕多透露一點(diǎn)技術(shù)信息,而恰恰忽視了公開不充分的問題。

  大量的案例表明,如果一件專利申請(qǐng)被審查員以技術(shù)方案公開不充分為由而發(fā)出審查意見通知書,則這件專利申請(qǐng)有98%的可能被駁回。這一點(diǎn)希望引起發(fā)明人的高度重視。

  誤區(qū)7:專利申請(qǐng)前不做任何檢索。

  有些發(fā)明人提交的專利申請(qǐng)文件沒有做查新檢索,對(duì)技術(shù)方案的新穎性如何不確定,根本不知道其技術(shù)方案有沒有公開過或公開使用過,這也是我國(guó)技術(shù)人員的通病——信息檢索和收集信息的能力極低。

  就公開而言,全世界范圍內(nèi)的任何文獻(xiàn)都可影響技術(shù)方案的新穎性。就公開使用而言,只有國(guó)內(nèi)的使用才影響技術(shù)方案的新穎性。也就是說,國(guó)外已經(jīng)普遍使用過的東西,如果國(guó)內(nèi)沒有出現(xiàn),各種文獻(xiàn)也沒有相關(guān)記載,那你就可以申請(qǐng)專利。

  如果他人已經(jīng)就某一技術(shù)方案申請(qǐng)過專利或者在相關(guān)文獻(xiàn)中公開,你沒有做檢索也去就這一技術(shù)方案申請(qǐng)專利,那只能是白白浪費(fèi)時(shí)間、金錢和精力了。

  誤區(qū)8:先發(fā)表論文或成果鑒定再申請(qǐng)專利。

  有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定,而沒有想到先申請(qǐng)專利保護(hù)。

  因?yàn)榘l(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開技術(shù)內(nèi)容,使專利申請(qǐng)失去新穎性而得不到保護(hù)。

  誤區(qū)9:對(duì)專利缺乏有效的管理。

  有些企業(yè)申請(qǐng)了很多專利,但無專人管理。專利文件之間有的互相沖突,有的已無市場(chǎng)價(jià)值還在交納年費(fèi)。有的專利權(quán)已經(jīng)遭受侵犯但企業(yè)管理者對(duì)專利特征不了解,不能及時(shí)提起訴訟,還有的則是專利文書撰寫的申請(qǐng)質(zhì)量差,不能起到應(yīng)該有的保護(hù)作用。

  誤區(qū)10:缺乏長(zhǎng)遠(yuǎn)的專利戰(zhàn)略規(guī)劃。

  有計(jì)劃地實(shí)施專利戰(zhàn)略對(duì)企業(yè)來說非常重要。首先,可以避免時(shí)間和精力的浪費(fèi)。一些企業(yè)毫無目的的申請(qǐng)大量專利,結(jié)果導(dǎo)致授權(quán)率低,并產(chǎn)生大量的垃圾專利,浪費(fèi)時(shí)間和精力。

  其次,可以突破國(guó)外企業(yè)的專利包圍。一個(gè)企業(yè)應(yīng)該對(duì)自己行業(yè)內(nèi)的基本專利狀況及外圍專利狀況有十分明確的認(rèn)識(shí),只有這樣才能找到技術(shù)突破口,排除他人專利障礙,確立自己的專利優(yōu)勢(shì),從而贏得市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)。

  以上是關(guān)于“2020年申請(qǐng)專利的十大誤區(qū)你入坑了嗎”的相關(guān)介紹,希望大家通過小編的介紹能對(duì)2020年申請(qǐng)專利的十大誤區(qū)你入坑了嗎有一個(gè)更為深入的認(rèn)識(shí)。如果有其他關(guān)于申請(qǐng)專利的疑問,歡迎咨詢大通天成在線客服。

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